勻膠旋涂儀的使用步驟：

1、開機前準備：清理殘余物，選擇合適的吸盤，并將樣品放在吸盤正中央。

2、開機與設定：打開電源，設定涂布的時間和轉速，并啟動真空吸附。

3、涂布：滴加光阻劑，并啟動涂布過程。

4、完成涂布后，關閉真空和電源，取下樣品。

本公司提供的L2001勻膠旋涂儀操作簡單，方便實用，旋涂均勻，結構小巧緊湊，占地面積小，節省超凈間的使用面積，為實驗室提供了理想的解決方案，其采用創新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤，無需真空泵或充氮氣，就能達到很好的旋涂效果。勻膠旋涂儀可對大小不同規格的基材都可進行旋涂，尤其是對超薄樣品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到旋涂效果。不會出現真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現象，影響涂層的均勻性。