一般來說，勻膠轉速快，時間長，膜厚就薄。影響勻膠旋涂儀旋涂薄膜厚度的因素可能有：

1.將膠液滴注在基底材料的表面。可以通過注射器噴嘴，將待涂覆的溶液或者膠液噴灑或者滴注到基底材料表面。滴注的膠液墨通常要要遠遠超過最終涂覆在表面的膠液量。

2.通過較快較短地加速，使基底材料的旋轉速度，快速達到設定的期望的理想轉速。

1.以設定恒定的速率和時長旋轉基底，通過改變膠液的黏度力來改變薄膜的厚度。

4.以設定恒定的速率和時長旋轉基底，通過膠液的揮發性來改變薄膜的厚度。

5.旋涂時間不變，通過改變旋轉基底的速度，改變薄膜的厚度。

6.旋涂速度不變，通過改變基底旋轉的時間，改變薄膜的厚度。

該設備在勻膠過程中基片的加速度也會對膠膜的性能產生影響。因為在基片旋轉的階段開始，光刻膠就開始干燥（溶劑揮發）了。所以準確控制加速度很重要。